ČVUT DSpace
  • Prohledat DSpace
  • English
  • Přihlásit se
  • English
  • English
Zobrazit záznam 
  •   ČVUT DSpace
  • České vysoké učení technické v Praze
  • Fakulta elektrotechnická
  • katedra mikroelektroniky
  • Diplomové práce - 13134
  • Zobrazit záznam
  • České vysoké učení technické v Praze
  • Fakulta elektrotechnická
  • katedra mikroelektroniky
  • Diplomové práce - 13134
  • Zobrazit záznam
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Charakterizace tenkých oxidových vrstev

Characterization of the Thin Oxide Layers

Typ dokumentu
diplomová práce
master thesis
Autor
Patrik Hlavatý
Vedoucí práce
Voves Jan
Oponent práce
Hospodková Alice
Studijní obor
Elektronika
Studijní program
Elektronika a komunikace
Instituce přidělující hodnost
katedra mikroelektroniky



Práva
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Vysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Zobrazit celý záznam
Abstrakt
Cílem práce je předložit teoretické poznatky o růstu a charakterizaci tenkých vrstev, zejména oxidů kovů a polokovů, včetně jejich aplikací v elektronice. Součástí teoretické části je porovnání různých metod růstu s detailnějším popisem metody ALD. Dále jsou popsány vybrané metody charakterizace tenkých vrstev. V experimentální části bude popsán proces růstu tenkých vrstev ZnO a měření některých jeho vlastností. Praktické poznatky, které práce přináší by mohly v budoucnu posloužit při růstu ZnO pro konkrétní aplikace.
 
The aim of this work is to present theoretical knowledge on the growth and characterization of thin films, especially metal oxides and semimetals, including their applications in electronics. The theoretical part includes a comparison of different growth methods with a more detailed description of the ALD method. Selected methods for thin film characterization are also described. The experimental part will describe the growth process of ZnO thin films and measurements of some of its properties. The practical knowledge provided by the work could serve in the future growth of ZnO for specific applications.
 
URI
http://hdl.handle.net/10467/110030
Zobrazit/otevřít
PLNY_TEXT (4.149Mb)
POSUDEK (134.2Kb)
POSUDEK (798.1Kb)
Kolekce
  • Diplomové práce - 13134 [285]

České vysoké učení technické v Praze copyright © 2016 

DSpace software copyright © 2002-2016  Duraspace

Kontaktujte nás | Vyjádření názoru
Theme by 
@mire NV
 

 

Užitečné odkazy

ČVUT v PrazeÚstřední knihovna ČVUTO digitální knihovně ČVUTInformační zdrojePodpora studiaPodpora publikování

Procházet

Vše v DSpaceKomunity a kolekceDle data publikováníAutořiNázvyKlíčová slovaTato kolekceDle data publikováníAutořiNázvyKlíčová slova

Můj účet

Přihlásit se

České vysoké učení technické v Praze copyright © 2016 

DSpace software copyright © 2002-2016  Duraspace

Kontaktujte nás | Vyjádření názoru
Theme by 
@mire NV