Modifikace povrchu křemíku kovalentním navázáním organických molekul pomocí Grignardovy reakce
Surface modification of silicon by the covalent attachment of organic molecules using Grignard reaction
Typ dokumentu
bakalářská prácebachelor thesis
Autor
Skálová Marie
Vedoucí práce
Kozempel Ján
Oponent práce
Smrček Stanislav
Studijní obor
Jaderná chemieStudijní program
Aplikace přírodních vědInstituce přidělující hodnost
katedra jaderné chemieObhájeno
2018-09-05Práva
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Zobrazit celý záznamAbstrakt
Tato práce se zabývá modifikací povrchu křemíku kovalentním navázáním organických molekul. Teoretická část se zabývá popisem obecných a polovodičových vlastností křemíku, rozdílů povrchů Si(100) a Si(111) a výroby křemíkového waferu, jenž je výchozím materiálem pro úpravy. Dále je pozornost věnována především chemickým reakcím umožňujícím navázání organických molekul na povrch křemíku, jejich mechanismu a podmínkám průběhu reakce. Experimentální část je zaměřena na přípravu alkylových vrstev ve třech krocích zahrnujících leptání, chloraci a následně Grignardovu reakci. Vzorky byly analyzovány pomocí FT-IR. This thesis deals with surface modification of silicon by the covalent attachment of organic molecules. The theoretical part deals with description of general and semiconductor properties of silicon, differences between Si(100) and Si(111) surfaces and the production of silicon wafer, which is the starting material for treatments. Attention is given to chemical reactions enabling attachment of organic molecules on silicon surface, their mechanism and reaction conditions. The experimental part focuses on preparation of alkyl layers in three steps involving etching, chlorination and subsequently Grignard reaction. Samples were analysed by FT-IR.