Studium interakce nízkoteplotního plazmatu s tenkou vrstvou cínu
A study of the interaction of low-temperature plasma with thin film of tin
Typ dokumentu
bakalářská prácebachelor thesis
Autor
Tomáš Mašek
Vedoucí práce
Tichý Milan
Oponent práce
Turek Zdeněk
Studijní obor
Fyzika plazmatu a termojaderné fúzeStudijní program
Fyzikální inženýrstvíInstituce přidělující hodnost
katedra fyzikyObhájeno
2023-09-05Práva
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Zobrazit celý záznamAbstrakt
Tato práce se věnuje interakci nízkoteplotního plazmatu s tenkou vrstvou cínu. První část se zabývá základním teoretickým popisem generovaného plazmatu, přípravou tenkých vrstev pomocí magnetronového naprašování, technologiemi analýzy povrchu a přehledem procesů při kontaktu plazmatu s pevnou látkou. Ve druhé části je popis experimentu, kde je popsána příprava tenkých vrstev a samotné zapojení obvodů při experimentu. V poslední části jsou diskutovány výsledky interakce za pomoci SEM snímků, EDS spekter a výsledků z Langmuirovy sondy. Dále je zde diskutován rozdíl vlivu samotné interakce s plazmatem a vypařování a další parametry ovlivňující interakci jako je průtok pracovního plynu a doba trvání interakce. The thesis focuses on the interaction of low-temperature plasma with thin film of tin. The first part is concerned with the basics of used plasma discharge, preparation of thin film using magnetron sputtering, surface analysis technologies and short overview of plasma-solid interaction. The second part is description of the experiment itself, mainly preparation of the thin tin films and used circuitry. In the last part, the interaction results are discussed using SEM images, EDS spectra and the results from Langmuir probe. Furthermore, the difference between the effects of plasma-solid interaction and evaporation is discussed, as well as other parameters affecting the interaction such as the flow of gas and interaction time.
Kolekce
- Bakalářské práce - 14102 [242]