Zobrazit minimální záznam

Effect of deposition parameters on roughness of coating prepared by PVD method



dc.contributor.advisorKrum Stanislav
dc.contributor.authorDuníková Sarah
dc.date.accessioned2019-02-20T10:59:58Z
dc.date.available2019-02-20T10:59:58Z
dc.date.issued2018-09-05
dc.identifierKOS-780960633405
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10467/80421
dc.description.abstractBakalářská práce se věnuje vlivu vybraných depozičních parametrů metody PVD na drsnost a morfologii CrAl povlaku. Pro experiment byla použita metoda nevyváženého magnetronového naprašování, při kterém se zvyšovala hodnota záporného předpětí, tzv. biasu. Práce je rozdělena na teoretickou a experimentální část. V teoretické části jsou uvedeny a přiblíženy metody fyzikální depozice PVD a popsány některé základní vlastnosti povlaků a způsoby jejich měření. Druhá část této práce je zaměřena na experiment, ve kterém je hodnocen vliv záporného předpětí depozice na drsnost, morfologii a tloušťku deponovaného povlaku. Z výsledků je patrný vliv tohoto parametru na drsnost, se kterou bias vykazuje nelineární závislost. Dále byl prokázán značný vliv záporného předpětí na vzniklé krystaly povlaku a jeho tloušťku, která se s rostoucí hodnotou biasu snižuje.cze
dc.description.abstractThe bachelor thesis deals with the effect of selected deposition parameters of PVD method on roughness and morphology of CrAl coating. In the experiment, coatings were prepared using an unbalanced magnetron sputtering method with different values of bias voltage. The thesis is divided into theoretical part and experimental part. The theoretical part describes different methods of physical vapor deposition and basic properties of coatings and methods of their measurement. Second part of this work is focused on an experiment in which the effect of different bias voltage of the deposition on roughness, morphology and thickness of the deposited coating is evaluated. The results show the effect of this parameter on the roughness, with which the bias has non-linear dependence, and also significant influence of bias on the crystals of the coating and its thickness, which decreases with the increasing bias.eng
dc.language.isoCZE
dc.publisherČeské vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.cze
dc.publisherCzech Technical University in Prague. Computing and Information Centre.eng
dc.rightsA university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmleng
dc.rightsVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlcze
dc.subjectPVD,nevyvážené magnetronové naprašování,bias,drsnostcze
dc.subjectPVD,unbalanced magnetron sputtering,bias,roughneseng
dc.titleVliv parametrů depozice na drsnost povlaků nanesených metodou PVDcze
dc.titleEffect of deposition parameters on roughness of coating prepared by PVD methodeng
dc.typebakalářská prácecze
dc.typebachelor thesiseng
dc.date.accepted2018-09-10
dc.contributor.refereeDaněk Martin
theses.degree.disciplineTechnologie, materiály a ekonomika strojírenstvícze
theses.degree.grantorústav materiálového inženýrstvícze
theses.degree.programmeVýroba a ekonomika ve strojírenstvícze


Soubory tohoto záznamu




Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit minimální záznam