Zobrazit minimální záznam

Sputtering and Vacuum Evaporating of Thin Film Layers



dc.contributor.advisorBeshajová Pelikánová Ivana
dc.contributor.authorOtt Michal
dc.date.accessioned2018-06-19T22:00:43Z
dc.date.available2018-06-19T22:00:43Z
dc.date.issued2018-06-12
dc.identifierKOS-695600206805
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10467/76951
dc.description.abstractTato bakalářská práce sestává ze tří částí, a sice shrnutí teoretických poznatků a podkladů o tenkých vrstvách, jejich vlastnostech a metodách výroby, praktického provedení zadaného úkolu ve formě vytvoření tenkovrstvých struktur a následného změření a vyhodnocení vlastností těchto vrstev. Účelem teoretické části je shrnout základní vědomosti o oboru tenkých vrstev a připravit tak podklady pro část praktickou. Cílem praktické, laboratorní části této práce je připravit struktury tenkých vrstev metodami naprašování a napařování, změřit jejich tloušťku a elektrický odpor a posoudit jak vzájemný vztah mezi těmito veličinami, tak faktory ovlivňující vytváření tenkých vrstev.cze
dc.description.abstractThis bachelor thesis is composed of three parts, namely a summary of theoretical knowledge and background of thin films, their properties and production processes, a practical performance of the task in the form of creating thin-film structures and a subsequent measurement and evaluation of their properties. The purpose of the theoretical part is to sum up basic knowledge about the field of thin films, and in doing so, to prepare the background for the practical part. The goal of the practical, laboratory part of this thesis is to prepare thin-film structures by the means of sputtering and evaporation, to measure their thickness and resistance and to evaluate both their correlation and the factors affecting the creation of thin films.eng
dc.language.isoCZE
dc.publisherČeské vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.cze
dc.publisherCzech Technical University in Prague. Computing and Information Centre.eng
dc.rightsA university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmleng
dc.rightsVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlcze
dc.subjecttenká vrstva,metody depozice tenké vrstvy,vakuové napařování,naprašování,magnetronové naprašování,tloušťka tenké vrstvy,odpor na čtvereccze
dc.subjectThin Film,Thin-Film Deposition Processes,Vacuum Evaporation,Sputtering,Magnetron Sputtering,Thin-Film Thickness,Sheet Resistanceeng
dc.titleNaprašování a napařování vodivých vrstevcze
dc.titleSputtering and Vacuum Evaporating of Thin Film Layerseng
dc.typebakalářská prácecze
dc.typebachelor thesiseng
dc.date.accepted2018-06-19
dc.contributor.refereeVaněk Lukáš
theses.degree.disciplineAplikovaná elektrotechnikacze
theses.degree.grantorkatedra elektrotechnologiecze
theses.degree.programmeElektrotechnika, energetika a managementcze


Soubory tohoto záznamu




Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit minimální záznam