Naprašování a napařování vodivých vrstev
Sputtering and Vacuum Evaporating of Thin Film Layers
dc.contributor.advisor | Beshajová Pelikánová Ivana | |
dc.contributor.author | Ott Michal | |
dc.date.accessioned | 2018-06-19T22:00:43Z | |
dc.date.available | 2018-06-19T22:00:43Z | |
dc.date.issued | 2018-06-12 | |
dc.identifier | KOS-695600206805 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10467/76951 | |
dc.description.abstract | Tato bakalářská práce sestává ze tří částí, a sice shrnutí teoretických poznatků a podkladů o tenkých vrstvách, jejich vlastnostech a metodách výroby, praktického provedení zadaného úkolu ve formě vytvoření tenkovrstvých struktur a následného změření a vyhodnocení vlastností těchto vrstev. Účelem teoretické části je shrnout základní vědomosti o oboru tenkých vrstev a připravit tak podklady pro část praktickou. Cílem praktické, laboratorní části této práce je připravit struktury tenkých vrstev metodami naprašování a napařování, změřit jejich tloušťku a elektrický odpor a posoudit jak vzájemný vztah mezi těmito veličinami, tak faktory ovlivňující vytváření tenkých vrstev. | cze |
dc.description.abstract | This bachelor thesis is composed of three parts, namely a summary of theoretical knowledge and background of thin films, their properties and production processes, a practical performance of the task in the form of creating thin-film structures and a subsequent measurement and evaluation of their properties. The purpose of the theoretical part is to sum up basic knowledge about the field of thin films, and in doing so, to prepare the background for the practical part. The goal of the practical, laboratory part of this thesis is to prepare thin-film structures by the means of sputtering and evaporation, to measure their thickness and resistance and to evaluate both their correlation and the factors affecting the creation of thin films. | eng |
dc.language.iso | CZE | |
dc.publisher | České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum. | cze |
dc.publisher | Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre. | eng |
dc.rights | A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html | eng |
dc.rights | Vysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html | cze |
dc.subject | tenká vrstva,metody depozice tenké vrstvy,vakuové napařování,naprašování,magnetronové naprašování,tloušťka tenké vrstvy,odpor na čtverec | cze |
dc.subject | Thin Film,Thin-Film Deposition Processes,Vacuum Evaporation,Sputtering,Magnetron Sputtering,Thin-Film Thickness,Sheet Resistance | eng |
dc.title | Naprašování a napařování vodivých vrstev | cze |
dc.title | Sputtering and Vacuum Evaporating of Thin Film Layers | eng |
dc.type | bakalářská práce | cze |
dc.type | bachelor thesis | eng |
dc.date.accepted | 2018-06-19 | |
dc.contributor.referee | Vaněk Lukáš | |
theses.degree.discipline | Aplikovaná elektrotechnika | cze |
theses.degree.grantor | katedra elektrotechnologie | cze |
theses.degree.programme | Elektrotechnika, energetika a management | cze |
Soubory tohoto záznamu
Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích
-
Bakalářské práce - 13113 [148]