• Aplikace depozice atomárních vrstev pro struktury fotovoltaických článků 

      Autor: Ruslanbek Ablataev; Vedoucí práce: Voves Jan; Oponent práce: Fejfar Antonín
      (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2022-06-01)
      Atomic layer deposition (ALD) je metoda depozice z plynné fáze, která umožňuje nanášení tenkých nanometrových vrstev materialu bez drobných otvorů. Díky samoomezujícím reakcím zahrnutým v procesu, ALD poskytuje vynikající ...
    • Charakterizace povrchů diamantových struktur 

      Autor: Rudolf Stanko; Vedoucí práce: Voves Jan; Oponent práce: Holovský Jakub
      (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2023-02-01)
      Táto práca uvedie čitateľa do základov o syntetických diamantoch. Stručne vysvetlí rôzne typy výroby a typy diamantov v závislostí od ich vlastností. Neskôr sa pozrie na vlastnosti uzko späté s použitím v elektrotechnickom ...
    • Depozice atomárních vrstev 

      Autor: Karolína Veselá; Vedoucí práce: Voves Jan; Oponent práce: Kalvoda Ladislav
      (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2021-06-09)
      Rozvoj mikroeletrotechnického průmyslu vede ke zmenšování rozměrů polovodičových součástek, a proto vyvstává poptávka po materiálech z tenkých vrstev. Využití metody depozice atomárních vrstev přineslo vlnu zájmu díky jejím ...