ČVUT DSpace
  • Search DSpace
  • Čeština
  • Login
  • Čeština
  • Čeština
View Item 
  •   ČVUT DSpace
  • Czech Technical University in Prague
  • Faculty of Electrical Engineering
  • Department of Radioelectronics
  • Bachelor Theses - 13137
  • View Item
  • Czech Technical University in Prague
  • Faculty of Electrical Engineering
  • Department of Radioelectronics
  • Bachelor Theses - 13137
  • View Item
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Aplikace depozice atomárních vrstev pro struktury fotovoltaických článků

Applications of Atomic Layer Deposition for the structures of photovoltaic cells.

Type of document
bakalářská práce
bachelor thesis
Author
Ruslanbek Ablataev
Supervisor
Voves Jan
Opponent
Fejfar Antonín
Study program
Otevřené elektronické systémy
Institutions assigning rank
katedra radioelektroniky



Rights
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Vysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Show full item record
Abstract
Atomic layer deposition (ALD) je metoda depozice z plynné fáze, která umožňuje nanášení tenkých nanometrových vrstev materialu bez drobných otvorů. Díky samoomezujícím reakcím zahrnutým v procesu, ALD poskytuje vynikající konformitu, nízké teploty nanášení a přesnou kontrolu tloušťky a složení. Díky miniaturizaci v elektronickém průmyslu, zejména ve výrobě fotovoltaických zařízení, ALD získalo významný zájem. Úprava rozhraní, která je klíčová pro získání efektivních fotovoltaických článků, může být přesně provedena pomocí metody ALD a byla zkoumána pro různé typy fotovoltaických zařízení. Tato bakalárská práce představuje hlavní principy ALD a ukazuje jej výhody. Dále je uveden přehled aplikací ALD při výrobě fotovoltaických članků. Experimentální část této práce je zaměřena na depozici vrstev oxidu hlinitého Al2O3 na Si wafer a následnou analýzu zlepšených fotovoltaických vlastností.
 
Atomic layer deposition (ALD) is a gas/vapor phase technique that allows depositing pinhole-free nanoscale thin films. Due to the self-limiting reactions involved in the process, ALD provides excellent conformality, low deposition temperatures, and precise thickness and composition control. Due to miniaturization in the electronics industry, particularly photovoltaic device manufacturing, ALD has gained significant traction. Interface modification, which is crucial for obtaining effective solar cells, can be accurately done using the ALD method, and it has been explored for various types of photovoltaic devices. This thesis introduces the main principles of ALD and showcases its benefits. Then an overview of ALD applications in photovoltaic device fabrication is given. The experimental part of this thesis focuses on the deposition of aluminum oxide Al2O3 layers onto Si wafer and subsequent analysis of improved photovoltaic characteristics.
 
URI
http://hdl.handle.net/10467/100935
View/Open
PLNY_TEXT (8.721Mb)
POSUDEK (243.3Kb)
POSUDEK (877.8Kb)
Collections
  • Bakalářské práce - 13137 [278]

České vysoké učení technické v Praze copyright © 2016 

DSpace software copyright © 2002-2016  Duraspace

Contact Us | Send Feedback
Theme by 
@mire NV
 

 

Useful links

CTU in PragueCentral library of CTUAbout CTU Digital LibraryResourcesStudy and library skillsResearch support

Browse

All of DSpaceCommunities & CollectionsBy Issue DateAuthorsTitlesSubjectsThis CollectionBy Issue DateAuthorsTitlesSubjects

My Account

Login

České vysoké učení technické v Praze copyright © 2016 

DSpace software copyright © 2002-2016  Duraspace

Contact Us | Send Feedback
Theme by 
@mire NV