• Aplikace depozice atomárních vrstev pro struktury fotovoltaických článků 

      Autor: Ruslanbek Ablataev; Vedoucí práce: Voves Jan; Oponent práce: Fejfar Antonín
      (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2022-06-01)
      Atomic layer deposition (ALD) je metoda depozice z plynné fáze, která umožňuje nanášení tenkých nanometrových vrstev materialu bez drobných otvorů. Díky samoomezujícím reakcím zahrnutým v procesu, ALD poskytuje vynikající ...