Příprava a charakterizace uspořádaných polí nanotyčinek ZnO na substrátech upravených elektronovou litografií.

Abstract

Cílem této práce bylo navrhnout ideální parametry pro tvorbu paternů pro růst uspořádaných polí ZnO nanotyčinek pomocí elektronové litografie, na těchto paternech vypěstovat ZnO struktury a stručně charakterizovat jejich optické a elektrické vlastnosti. Práce shrnuje problematiku přípravy paternů pomocí elektronové litografie na substráty vhodné k růstu ZnO. Nastiňuje měření těchto struktur pomocí mikroskopu atomárních sil. Práce uvádí výsledky růstů ZnO nanotyčinek na paternovaných substrátech na epitaxní vrstvě ZnO a GaN v dávkovém reaktoru a reaktoru s kontinuálním průtokem. V experimentální části jsou uvedeny výsledky dosažené pomocí elektronové litografie, dále výsledky růstu ZnO struktur na mikro a nano paternech a výsledky měření fotoluminescenčních spekter a elektrických vlastností struktur ZnO vypěstovaných na substrátech paternovaných elektronovou litografií.

Main goal of this thesis was to design the ideal parameters for creating patterns for the growth of ZnO nanorods arranged in arrays using electron beam lithography, grow of ZnO on these patterns and characterize their optical and electrical properties. This work summarizes the issues of preparation of patterns by using electron beam lithography on a substrate suitable for the growth of ZnO and outlines the measurement of these structures using atomic force microscope. The thesis presents results of the growth of ZnO nanorods on patterned substrates of the epitaxial layer of GaN and ZnO in a batch reactor and a continuous flow microreaktor. In the experimental section it presents the results made by electron beam lithography, the achievements of the growth of ZnO structures at the micro and nano patterns and results of photoluminescence spectra and electrical properties of ZnO structures growed on substrates patterned by electron beam lithography.