Simulace růstu tenkých vrstev vysokoentropických slitin pomocí metod molekulární dynamiky
Growth simulations of high entropy alloys thin layers by molecular dynamics metods
Type of document
bakalářská prácebachelor thesis
Author
Petr Jaroš
Supervisor
Kalvoda Ladislav
Opponent
Sedlák Petr
Field of study
Inženýrství pevných látekStudy program
Aplikace přírodních vědInstitutions assigning rank
katedra inženýrství pevných látekRights
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Show full item recordAbstract
Tato práce se zabývá simulací depozice tenkých vrstev pomocí metod molekulární dynamiky. Přiblížení tohoto procesu může vést k značnému zjednodušení přípravy reálných experimentů. Cílem práce bylo vytvoření obecnějšího skriptu v programu LAMMPS, který by mohl postihnout parametry charakteristické pro metodu Ionized Jet Deposition. Funkčnost skriptu je ověřena na vysokoentropické slitině FeNiCoCuCrAl, která je deponována ve dvou stechiometriích Al2Co9Cr32Cu39Fe12Ni6 a ekviatomární stechiometrii. Výsledky jsou diskutovány v závislosti na volbě dostupných potenciálů a byly porovnány s dostupnými daty z reálných či simulovaných experimentů. The purpose of this work is to use the principles of the molecular dynamic in oder to approach a process of a thin layer deposition. The approximation of this process can lead to significant simplification of the real experiment preparation. The aim of this work is to write a general code in LAMMPS programming language that could capture the parameter characteristics for the Ionized Jet Deposition method. This general code is applied to high entropy alloy FeNiCoCuCrAl, which is simulated in two stoichiometries Al2Co9Cr32Cu39Fe12Ni6 and equiatomic stoichiometrie. The results were discussed depending on the choice of available potentials and were compared to available data.