Rentgenové lasery pro biologické aplikace
X-ray lasers for bio-imaging and other bio-applications
Type of document
diplomová prácemaster thesis
Author
Vyšín Luděk
Supervisor
Juha Libor
Opponent
Mocek Tomáš
Field of study
Přístroje a metody pro biomedicínuStudy program
Biomedicínská a klinická technikaInstitutions assigning rank
katedra přírodovědných oborůDefended
2008-06-26Rights
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one?s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.htmlVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://knihovny.cvut.cz/vychova/vskp.html
Metadata
Show full item recordAbstract
V teoretické části této práci jsem podal stručný přehled zdrojů rentgenového (rtg) a extrémního ultrafialového (XUV) záření. Důraz jsem kladl především na problematiku rychlého kapilárního výboje generujícího koherentní záření o vlnové délce 46.9 nm a laseru na volných elektronech - FEL (zde FLASH). V experimentální části byla sledována eroze PMMA iniciovaná svazkem vysokých harmonických a laserem navolných elektronech a její využití k charakterizaci tohoto záření. Navrhl jsem jednoduché reflektometrické schéma pro měření odrazivosti vzorků pro dopadající XUV záření. Při interakci UV záření excimerového KrF laseru s plazmidovou DNA nebyl zaznamenán výskyt zlomů, který by převyšoval úrovně stanovené v referenčním vzorku. Ozáření jedním pulzem se však v elektroforetogramech projevilo markantním úbytkem DNA ve formách, které mohou v gelu migrovat. Elektroforéza DNA ozářené tisíci impulzy XUV laseru vykázala poměr SSB ku DSB roven 1/25. To je obrácený poměr než ten, registrovaný pro rtg resp. gama záření. V interakci XUV záření s DNA zřejmě převládá přímý účinek fotonů s energií 26,4 eV, který je navíc při daných intenzitách a krátké atenuační délce korelován mezi jednotlivými fotony. Další experimenty jsou nutné. In the theoretical part of this thesis, a brief overview of XUV/x-ray sources is given. Its prospective use in various bio-applications is also presented. An emphasis has been placed on a fast capillary discharge in Ar, generating coherent radiation at a wavelength of 46.9 nm and free-electron laser - FEL (here FLASH in Hamburg). In the experimental part of this thesis, an erosion of PMMA induced by high-order harmonics and free-electron laser was used for a beam characterization of them. A layout for measuring the sample XUV reflectance have been proposed. No additional breaks of DNA strands were observed after the irradiation of plasmid DNA by a single shot of KrF excimer laser in a comparison to their occurrence in the reference unirradiated sample. However, the irradiation leads to a remarkable decrease of DNA forms, which can be separated by electrophoresis. Electrophoresis of DNA irradiated by 1000 shots of XUV laser showed radiolysis with the ratio of single- (SSB) and double-strand breaks (DSB) of 1/25. This finding can be explained by a direct action of correlated 26.4-eV photons. Further measurements are required.
Collections
- Diplomové práce - 17101 [236]
Related items
Showing items related by title, author, creator and subject.
-
Laserové leštění 3D tištěných niklových superslitin
Author: Martin Maštera; Supervisor: Beránek Libor; Opponent: Primus Tomáš
(České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2024-08-22)Tato diplomová práce se zabývá problematikou laserů a jejich využití k laserovému leštění 3D tištěných vzorků z niklové superslitiny Haynes 230. Vyhodnocuje vliv laserového leštění na zlepšení textury povrchu a strukturní ... -
Úprava laserového zařízení pro možnost navařování
Author: Seidl Ladislav; Supervisor: Brajer Jan; Opponent: Řeháková Martina
(České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2017-05-29)Bakalářská práce se zabývá rešerší technologií vhodných pro zařízení Lumonics JK701H. Následně jsou navrženy úpravy stávající konstrukce laserové navařovací hlavy. Je vybrána vhodná varianta úpravy a ta je zpracována do ... -
Využití pokročilých funkcí laserového zařízení pro odstaňování povlaku
Author: Josef Hlavinka; Supervisor: Zeman Pavel; Opponent: Čermák Adam
(České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum.Czech Technical University in Prague. Computing and Information Centre., 2021-08-25)Práce se zabývá odstraňováním ochranných povlaků řezných nástrojů laserem pomocí pokročilých funkcí laserových systémů. V teoretické části jsou popsány principy laserové ablace, je sestavena metodika pro provádění technologie. ...