Studium polykrystalických vrstev křemíku při různých teplotách pomocí mikrospektroskopie Ramanova roztylu
Study of Polycrystalline Silicon Thin Films at Various Temperatures by Raman microspectroscopy
Type of document
bakalářská práceAuthor
Schilhart Robin
Supervisor
Fejfar Antonín
Opponent
Michl Martin
Field of study
Fyzikální inženýrstvíStudy program
Aplikace přírodních vědInstitutions assigning rank
Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrskáDefended
2012-09-12 00:00:00.0Rights
A university thesis is a work protected by the Copyright Act. Extracts, copies and transcripts of the thesis are allowed for personal use only and at one’s own expense. The use of thesis should be in compliance with the Copyright Act http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf and the citation ethics http://www.cvut.cz/sites/default/files/content/d1dc93cd-5894-4521-b799-c7e715d3c59e/cs/20160901-metodicky-pokyn-c-12009-o-dodrzovani-etickych-principu-pri-priprave-vysokoskolskych.pdfVysokoškolská závěrečná práce je dílo chráněné autorským zákonem. Je možné pořizovat z něj na své náklady a pro svoji osobní potřebu výpisy, opisy a rozmnoženiny. Jeho využití musí být v souladu s autorským zákonem http://www.mkcr.cz/assets/autorske-pravo/01-3982006.pdf a citační etikou http://www.cvut.cz/sites/default/files/content/d1dc93cd-5894-4521-b799-c7e715d3c59e/cs/20160901-metodicky-pokyn-c-12009-o-dodrzovani-etickych-principu-pri-priprave-vysokoskolskych.pdf
Metadata
Show full item recordView/ Open
Collections
- Bakalářské práce - 14112 [112]
The following license files are associated with this item: