Hledat
Zobrazují se záznamy 1-6 z 6
Rezistový reliéfní záznamový materiál, Resist relief recording material
; Vedoucí práce: Květoň Milan; Oponent práce: Svoboda Jakub (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2011-10-14)
Vytváření mikro a nanostruktur pomocí AFM mikroskopie, Realization of micro and nanostructures using the AFM microscopy
; Vedoucí práce: Škereň Marek; Oponent práce: Květoň Milan (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2011-10-14)
Barevná obrazová holografie, Color image holography
; Vedoucí práce: Škereň Marek; Oponent práce: Květoň Milan (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2012-09-15)
Výzkum fotopolymerního záznamového materiálu s epoxidovou matricí pro optickou holografii, Research of photopolymer recording media with epoxy matrix for optical holography
; Vedoucí práce: Květoň Milan; Oponent práce: Havránek Antonín (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2013-02-19)
Záznamové materiály s dvoufotonovou fotopolymerizací pro optickou litografii, Two-photon photopolymerization recording materials for optical litography
; Vedoucí práce: Květoň Milan; Oponent práce: Fiala Jan (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2013-10-01)
Realizace 2D a 3D struktur ve fotorezistových záznamových materiálech pomocí laserové interferenční litografie, Fabrication of 2D and 3D structures in photoresist recording media with laser interference lithography
; Vedoucí práce: Květoň Milan; Oponent práce: Lédl Vít (České vysoké učení technické v Praze. Vypočetní a informační centrum., 2014-06-27)