Deposition of Ultra-Thin Films by Langmuir-Blodgett Method
Depozice ultratenkých vrstev metodou Langmuira a Blodgettové
Authors
Supervisors
Reviewers
Editors
Other contributors
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
České vysoké učení technické v Praze
Czech Technical University in Prague
Czech Technical University in Prague
Date
Abstract
V této práci jsme se věnovali ultratenkým vrstvám a jejich depozici metodou Langmuira a Blodgettové. Teoretická část obsahuje popis této metody a fyzikální principy, které jsou s ní spojeny. Dále je v ní popsáno, jak lze těchto vrstev využít pro výrobu plazmonických nanostruktur. V praktické části jsme na základě zjištěných informací připravili nejprve vrstvy palmitové kyseliny. Následně pak byly vytvořeny vrstvy silikonových nanokuliček a bylo zjištěno, že takto připravená vrstva může dosáhnout parametrů požadovaných pro použití v koloidní litografii.
In this thesis, we focused on ultrathin films and their deposition using the Langmuir-Blodgett method. The theoretical part includes a description of this technique and the physical principles associated with it. Furthermore, it describes how these films can be utilized for the fabrication of plasmonic nanostructures. In the experimental part, based on the gathered information, we initially prepared layers of palmitic acid. Subsequently, layers of silicone nanospheres were created, and it was found that the prepared film could achieve the desired parameters for use in colloidal lithography.
In this thesis, we focused on ultrathin films and their deposition using the Langmuir-Blodgett method. The theoretical part includes a description of this technique and the physical principles associated with it. Furthermore, it describes how these films can be utilized for the fabrication of plasmonic nanostructures. In the experimental part, based on the gathered information, we initially prepared layers of palmitic acid. Subsequently, layers of silicone nanospheres were created, and it was found that the prepared film could achieve the desired parameters for use in colloidal lithography.
Description
Keywords
Monovrstva, SiO2 nano- a mikro-částice, metoda Langmuira a Blodgettové, koloidní litografie, nanostruktura, AFM, optická mikroskopie, Brewsterova mikroskopie, Monolayer, SiO2 nanoparticles and micro-particles, Langmuir-Blodgett method, colloidal lithography, nanostructure, AFM, optical microscopy, Brewster microscopy